Di proses litografi, langkah “soft bake” dan “hard bake” bukan sekadar langkah untuk “menetapkan kondisi fotoresist”. Langkah-langkah ini sebenarnya digunakan untuk menentukan batasan dimensi kritis yang diperbolehkan. Perubahan suhu sebesar 0,3°C saja pada permukaan wafer dapat menyebabkan lebar garis gambar menjadi tidak sesuai standar, sehingga seluruh produk akan dibuang. Kita menciptakan lampu pemanas jenis DUV untuk mengatasi masalah ini.
Apa yang penting secara teknis? Lampu ini menggunakan panas inframerah dekat (NIR) untuk menciptakan medan termal yang seragam hingga tingkat ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Hal ini memungkinkan keberulihan hasil produksi yang baik, karena keluaran lampu dikontrol secara presisi, bukan hanya berdasarkan bacaan termokopel yang jaraknya jauh. Dengan demikian, suhu pemanasan fotoresist tetap terkendali, baik saat proses pengembangan maupun produksi massal.
Keamanan lingkungan juga merupakan faktor penting dalam desain lampu ini. Lampu ini dapat digunakan dalam lingkungan kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang menghasilkan emisi gas yang rendah, serta zona panas yang terkendali agar tidak ada kontaminasi pada wafer.
Mengapa lampu ini cocok digunakan di pabrik nyata? Di pabrik yang beroperasi 24/7, waktu henti yang tidak terencana sangat merugikan. Lampu ini dapat beroperasi tanpa henti, tanpa mengorbankan efisiensi. Respons termal yang cepat memperpendek waktu pemanasan dan mengurangi konsumsi energi.
Dengan demikian, Anda dapat memproduksi lebih banyak wafer per hari, mengurangi jumlah produk yang perlu diperbaiki, dan menjaga proses litografi tetap stabil—artinya, jumlah produk yang gagal diminimalkan. Tidak adanya partikel selama proses pemanasan melindungi kualitas produk, terutama di tahap-tahap yang sangat sensitif, di mana satu cacat saja sudah cukup untuk merusak produk tersebut.
Apa yang perlu Anda ketahui terlebih dahulu? Pemasangan lampu ini cukup sederhana, tetapi lampu ini membutuhkan sistem pasokan daya dan pendinginan yang sesuai dengan beban termalnya. Lampu ini dapat diintegrasikan ke dalam sistem yang sudah ada, tetapi Anda perlu merencanakan posisi pemasangannya terlebih dahulu. Jika tidak, proses konfigurasi ulang jalur produksi akan terhambat.
Pastikan sistem pasokan daya dan pendinginan berfungsi dengan baik terlebih dahulu. Dengan begitu, profil pemanasan akan tetap stabil sejak proses pengujian pertama dilakukan.