Di lantai produksi, wafer yang keluar dari proses pembersihan masih memiliki noda akibat air, lapisan fotoresist yang belum diproses dengan benar, atau bahan pengemas yang tidak mengeras secara merata. Hal-hal ini tidak hanya memperlama waktu proses produksi, tetapi juga merusak wafer itu sendiri. Itulah sebabnya penggunaan pemanas inframerah perlu dikendalikan dengan baik: kontrol suhu yang ketat, tanpa adanya partikel tambahan atau tekanan termal yang berlebihan pada wafer.
Yang penting secara teknis Kami menggunakan pemanas inframerah tipe gelombang pendek dan desain termal berbasis kuarsa agar suhu pada wafer dapat dikontrol hingga ±0,1°C. Kontrol suhu yang baik sangatlah penting agar proses pembakaran fotoresist berjalan lancar, sehingga dimensi dan profil sisi wafer tetap terkendali.
Kontrol berbasis loop tertutup memastikan bahwa suhu tetap stabil, bahkan saat proses berlangsung dengan cepat. Perangkat ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan komponen-komponennya dirancang sedemikian rupa sehingga tidak menghasilkan partikel apa pun.
Mengapa hal ini efektif dalam produksi Satu unit pemanas dapat digunakan untuk beberapa tahap proses: pengeringan wafer setelah pembersihan, pembakaran fotoresist dalam proses litografi, serta proses pengerasan bahan pengemas di tahap akhir. Dengan demikian, waktu produksi menjadi lebih efisien, dan tingkat kegagalan produk berkurang karena suhu yang tetap stabil.
Penggunaan energi juga berkurang, karena sistem NIR sangat efisien, dan massa termalnya rendah. Keandalan perangkat ini sangat tinggi, sehingga dapat beroperasi 24/7 tanpa masalah, sehingga tidak ada masa henti yang tidak direncanakan atau kebutuhan akan persediaan cadangan yang berlebihan.
Apa yang perlu dipertimbangkan Proses pemasangan memerlukan penyesuaian ukuran perangkat, koneksi gas dan saluran udara, serta pengaturan antarmuka PLC. Lakukan uji coba singkat untuk menyetel proses pemanasan sesuai dengan jenis film dan substrat yang digunakan.
Perangkat ini berkinerja terbaik pada ukuran wafer standar dan paket yang datar. Jika Anda menggunakan substrat yang berbentuk melengkung atau tidak standar, Anda mungkin perlu menggunakan perlengkapan khusus untuk menjaga keseragaman suhu.