Dalam proses litografi, langkah “soft bake” dan “hard bake” bukan sekadar langkah untuk “menetapkan suhu bahan fotoresist”. Sebenarnya, langkah-langkah ini digunakan untuk menentukan dimensi kritikal yang diperlukan. Perubahan suhu sebanyak 0.3°C pada wafer boleh menyebabkan ketidakkonsistenan dalam dimensi garis-garis pada wafer tersebut, sehingga membuang seluruh produk yang dihasilkan. Kami telah mencipta lampu pemanas DUV untuk mengurangkan pengaruh suhu terhadap proses ini.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Lampu ini menggunakan haba inframerah dekat (NIR) untuk mencipta medan haba yang seragam, dengan variasi suhu sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Ini memungkinkan hasil yang konsisten antara satu kumpulan wafer dengan kumpulan wafer yang lain, kerana output lampu dikawal secara automatik, bukan berdasarkan pengukuran suhu yang dilakukan oleh termokopel jarak jauh. Ini bermakna suhu pemanasan bahan fotoresist tetap stabil, sama ada semasa proses pembangunan atau produksi.
Kebolehsesuaian lampu ini dengan persekitaran bilik bersih juga merupakan ciri pentingnya. Ia sesuai digunakan dalam persekitaran Kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta zon panas yang dikawal rapi agar kotoran tidak mengenai wafer.
Mengapa ia berkesan dalam fasiliti pengeluaran sebenar
Dalam fasiliti pengeluaran yang beroperasi 24/7, masa henti yang tidak dirancang akan menyebabkan kerugian besar. Lampu ini membolehkan proses pengeluaran berjalan tanpa gangguan, tanpa mengorbankan kecekapan. Tindak balas haba yang cepat memendekkan masa pemprosesan, sekaligus mengurangkan penggunaan tenaga.
Dengan ini, lebih banyak wafer dapat dihasilkan setiap hari, dengan kurangnya keperluan untuk melakukan kerja pembaikan. Proses litografi juga akan lebih tepat, sehingga mengurangkan jumlah produk yang dibuang. Tiada penghasilan zarah semasa proses pemanasan, yang seterusnya melindungi kualiti produk, terutamanya pada tahap yang sangat sensitif, di mana satu kesalahan pun boleh merosakkan peranti tersebut.
Apa yang perlu anda ketahui terlebih dahulu
Pemasangan lampu ini agak mudah, tetapi ia memerlukan sumber kuasa dan sistem penyejukan yang sesuai dengan beban haba yang dihasilkannya. Lampu ini boleh disambungkan dengan mudah ke sistem sedia ada, tetapi anda perlu merancang ruang dan saluran utiliti dengan teliti terlebih dahulu. Jika tidak, anda akan menghadapi masalah berkaitan penyesuaian sistem.
Pastikan semua unsur utiliti disediakan dengan betul terlebih dahulu. Dengan cara ini, profil pemanasan lampu akan menjadi stabil sejak kumpulan wafer pertama diproses.