Na linha de produção, um wafer que sai da etapa de limpeza com marcas causadas pela água, um revestimento fotossensível que não foi tratado da maneira correta, ou um material de revestimento que não secou de forma uniforme, não só aumentam o tempo de processamento, mas também podem danificar os próprios wafers. É por isso que o aquecimento por infravermelhos precisa ser preciso: é necessário um controle rigoroso da temperatura, sem a adição de partículas ou danos ao wafer devido ao estresse térmico.
O que é importante, tecnicamente
Desenvolvemos o aquecedor por infravermelhos pós-limpeza utilizando ondas curtas de infravermelho e um design térmico baseado em quartzo. Isso permite uma uniformidade nas temperaturas dentro de ±0,1°C. Essa precisão é fundamental para garantir o controle preciso das dimensões dos wafers e do seu perfil lateral.
O controle em circuito fechado mantém a temperatura estável, mesmo quando há variações rápidas na temperatura. O hardware é adequado para salas limpas de classe 1–100, e os emissores e componentes são projetados para gerar praticamente zero partículas.
Por que funciona bem na produção
Um único aquecedor pode ser utilizado em várias etapas: secagem dos wafers após a limpeza, tratamento do revestimento fotossensível durante a litografia, e secagem dos pacotes no final do processo. Isso aumenta a produtividade, pois a temperatura é alcançada rapidamente. Além disso, a precisão da temperatura reduz os defeitos nos produtos.
O consumo de energia também diminui, pois o sistema de aquecimento por infravermelhos é eficiente, e a massa térmica permanece baixa. A confiabilidade é garantida pelo funcionamento contínuo das unidades 24/7, sem grandes variações de temperatura. Assim, não há necessidade de paradas imprevistas ou de estoques extras.
O que você precisa planejar
A instalação envolve ajustes para que o equipamento se adapte ao espaço disponível, além da conexão de gases e sistemas de exaustão. Também é preciso garantir que as interfaces do PLC estejam corretamente conectadas. É necessário realizar um teste inicial para ajustar as configurações do equipamento de acordo com os filmes e substratos utilizados.
O equipamento funciona melhor em wafers de tamanho padrão e em pacotes planos. Se você estiver trabalhando com substratos curvos ou não padrão, provavelmente será necessário utilizar um dispositivo personalizado para manter a uniformidade da temperatura onde ela é necessária.