Kurutma Sırasında MEMS Wafer’lerinizi Temiz Tutmak
Eğer Class 100 standardında bir temiz oda kullanıyorsanız, bunun ne kadar ciddi bir sorun olduğunu zaten biliyorsunuzdur: Küçücük bir toz parçası ya da yanlışlıkla sızan bir kimyasal buhar bile tüm ürünlerin boşa gitmesine neden olabilir.
Sorun şu ki, çoğu ısıtma elemanı aslında oldukça kirlidir. Isındıklarında mikroskobik parçacıklar yayabilir veya uçucu organik bileşikler salabilirler. Bu da felaket anlamına gelir.
İşte bu yüzden yüksek saflıkta sentetik kuvars IR lambalarını kullanıyoruz. Bu lambalar böyle bir soruna neden olmaz.
Neden saf kuvars kullanıyoruz?
Fusible silika kullanıyoruz çünkü çok dayanıklıdır. Standart camlar veya ucuz kuvarslar ısındığında parçalanma eğilimindedir. Ama bu malzeme öyle değildir.
En iyi yanı ise, IR radyasyonunun wafer üzerindeki sıvı tabakasından doğrudan geçmesidir. Böylece nem hızla buharlaşır ve waferin yüzeyine hiçbir şey temas etmediği için çizikler veya kirler konusunda endişelenmenize gerek kalmaz.
Isının doğru şekilde ayarlanması
Burada kısa dalga boyundaki IR ışınlarını kullanıyoruz. Bu ışınlar neredeyse anında wafer yüzeyine ulaşır. Çok hızlıdır. Eğer çözücünün buharlaşması uzun sürerse, su lekeleri oluşur.
Isının tüm wafer üzerinde eşit olarak dağılması için güç ve voltajı hassas bir şekilde ayarlıyoruz. Bir ipucu: Eğer işlemleri hızlandırmak için gücü artırırsanız, substrat tutucusunun bu ısıya dayanabileceğinden emin olun. Aksi takdirde wafer deform olabilir.
Her şeyin uyumlu olması
Tasarımımız mümkün olduğunca basit. Toz biriktirmeye yol açacak büyük kutular yoktur. Bağlantılar da en aza indirgenmiştir; böylece daha az parça kırılma riski vardır. Ayrıca, elektrik bağlantı noktalarından ısıtma bölgesine hiçbir parçacığın sızmaması için özel contalar kullanıyoruz.
Son bir ipucu: Bu lambalar çok ısınır. Lambaların uçları için özel bir soğutma sistemi kullanılmasını öneriyoruz. Böylece uzun üretim süreçlerinde lambaların zarar görmesi engellenir.