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		<title>Heilung on Clear Infrared Heating Lamps</title>
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				<title>Reflektor für Wafer Aushärtungslampe</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://clear-ir-lamp.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Reflektor für Wafer Aushärtungslampe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Wafer-Oberfläche ist es so: Schon eine Abweichung von 0,2 °C bei der Erhitzung des Fotoresists reicht aus, um die kritischen Abmessungen außerhalb der Spezifikationen zu bringen. Und dieser Reflektor in der Lampe zum Aushärten des Wafer? Das ist nicht einfach nur ein weiteres Bauteil – er beeinflusst aktiv das thermische Verhalten des Wafer. Wenn es keine Gleichmäßigkeit gibt, entstehen ungleichmäßige Belichtungen, Unreinheiten auf der Oberfläche sowie ein Rückgang der Ertragsrate – was erst bei den elektrischen &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Tests&lt;/a&gt; sichtbar wird.&lt;/p&gt;</description>
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