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		<title>Reinigung on Clear Infrared Heating Lamps</title>
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				<title>Infrarot Heizer für Wafer nach der Reinigung</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://clear-ir-lamp.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Infrarot Heizer für Wafer nach der Reinigung&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungskulisse kann ein Wafer, der aus dem Reinigungsprozess mit Wasser kommt und dadurch Spuren aufweist, oder ein Photolack, der nicht richtig gebacken wurde, oder ein Überzugsmaterial, das ungleichmäßig aushärtet, dazu führen, dass nicht nur die Bearbeitungsdauer beeinträchtigt wird – sondern auch die Wafer selbst beschädigt werden. Deshalb muss die Infrarotheizung vorhersehbar sein: Es muss eine genaue Temperaturkontrolle geben, ohne dass dabei Partikel entstehen oder der Wafer durch thermische Belastungen beschädigt wird.&lt;/p&gt;</description>
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