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		<title>Résister on Clear Infrared Heating Lamps</title>
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		<description>Recent content in Résister on Clear Infrared Heating Lamps</description>
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				<title>Lampe de cuisson pour résine UV profond (DUV)</title>
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				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:48:21 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://clear-ir-lamp.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lampe de cuisson pour résine UV profond (DUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans le processus de lithographie, les étapes de cuisson du photorésistant ne consistent pas simplement à « fixer » le photorésistant. Elles déterminent en réalité les dimensions critiques du produit final. Une déviation de 0,3 °C sur toute la surface de la wafer peut provoquer des écarts par rapport aux spécifications prévues, ce qui entraîne l’abandon de toute la production. Nous avons donc conçu une lampe de cuisson pour le photorésistant capable d’éliminer cet élément aléatoire de l’équation.&lt;/p&gt;</description>
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