<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>UV on Clear Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://clear-ir-lamp.com/id/tags/uv/</link>
		<description>Recent content in UV on Clear Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:48:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://clear-ir-lamp.com/id/tags/uv/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pengering untuk resist Deep UV (DUV)</title>
				<link>http://clear-ir-lamp.com/id/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:48:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://clear-ir-lamp.com/id/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://clear-ir-lamp.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lampu pengering untuk resist Deep UV (DUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di proses litografi, langkah “soft bake” dan “hard bake” bukan sekadar langkah untuk “menetapkan kondisi fotoresist”. Langkah-langkah ini sebenarnya digunakan untuk menentukan batasan dimensi kritis yang diperbolehkan. Perubahan suhu sebesar 0,3°C saja pada permukaan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; dapat menyebabkan lebar garis gambar &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;menjadi&lt;/a&gt; tidak sesuai standar, sehingga seluruh produk akan dibuang. Kita menciptakan lampu &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;pemanas&lt;/a&gt; jenis DUV untuk mengatasi masalah ini.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting secara teknis?&lt;/strong&gt;&#xA;Lampu ini menggunakan panas inframerah dekat (NIR) untuk menciptakan medan termal yang seragam hingga tingkat ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Hal ini memungkinkan keberulihan &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;hasil&lt;/a&gt; produksi yang baik, karena keluaran lampu dikontrol secara presisi, bukan hanya berdasarkan bacaan termokopel yang jaraknya jauh. Dengan demikian, suhu pemanasan fotoresist tetap terkendali, baik saat proses pengembangan maupun produksi massal.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
