Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Fri, 17 Jul 2026 08:07:28 +0800

Mengekalkan kebersihan kilang semasa berlaku kerosakan
Dalam kilang yang beroperasi pada kapasiti tinggi, kerosakan pada lampu inframerah merupakan masalah yang serius. Bukan sahaja ia menyebabkan gangguan operasi, tetapi juga menciptakan kekacauan. Apabila tiub kuarsa pecah, serpihan kaca dan filamen tungsten akan jatuh ke atas wafer tersebut. Satu kegagalan pun sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan batch wafer yang dihasilkan.

Kami membina lampu-lampu ini dengan tujuan untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku.

Masalah berkaitan haba
Kebanyakan lampu gagal kerana tidak mampu menanggung perubahan suhu yang ekstrem. Apabila beban yang dikenakan tinggi, bahagian tengah lampu akan menjadi sangat panas, sementara bahagian hujungnya tetap sejuk. Tekanan inilah yang menyebabkan kaca lampu pecah.

Inframerah vs Konveksi untuk pengeringan wafer

Thu, 04 Jun 2026 03:57:09 +0800

Di lantai fabrik, pengeringan wafer dan penaikan fotoresist bukan langkah thermal pilihan—ia adalah sekatan proses yang tidak boleh diabaikan. Ketuhar konveksi melawan kelewatan thermal dan gradien tepi-ke-tengah, dan itu muncul sebagai mikro-titisan selepas pembersihan atau pergeseran CD selepas penaikan lembut. Anda akhirnya mengejar penyimpangan hasil, dan ia muncul sebagai kegagalan kebolehulangan dalam litografi.
Apa yang penting, secara teknikal
Inframerah memberikan haba radian langsung, jadi wafer dipanaskan dengan cepat dengan hampir tiada pergerakan udara. Modul halogen gelombang pendek kami mencapai peningkatan sub-saat dan mengekalkan keseragaman tahap wafer dalam ±0.1°C merentasi substrat. Ketepatan itu yang memastikan tingkap penaikan lembut dan penaikan keras tetap utuh—mengawal penyejatan pelarut dan profil pautan silang tanpa lebihan thermal. Platform ini sesuai untuk bilik bersih Kelas 1–100, dan reka bentuknya mengekalkan penghasilan zarah hampir sifar dengan mengurangkan aliran udara konvektif dan menggunakan pemancar permukaan bersih.
Berikut adalah sebab mengapa ia berfungsi dalam amalan.
Respons suhu yang lebih cepat memendekkan masa kitaran dan mengurangkan bajet thermal bagi setiap kumpulan, yang penting apabila anda seimbang antara throughput dan geometrik peranti yang semakin mengecil. Keseragaman yang lebih ketat memberikan anda kawalan profil fotoresist yang lebih baik, kurang kerja semula, dan prestasi overlay yang lebih stabil. Penggunaan tenaga menurun kerana tenaga masuk ke dalam wafer, bukan ke dinding ruang pemanasan dan volume gas yang besar. Dan kebolehpercayaannya dibina untuk operasi 24/7—jangka masa penyelenggaraan yang boleh diramalkan dan bukannya masa henti yang mengejut.
Sekarang, beberapa realiti.
Pemanasan inframerah adalah berdasarkan garis pandang, jadi susun atur pemancar dan geometri wafer mesti sepadan untuk mengelakkan bayang-bayang. Untuk beberapa filem yang dilapisi tebal atau sangat reflektif, tingkap proses lebih sempit berbanding dengan konveksi, dan perbezaan emissivity merentasi filem bermakna anda memerlukan resipi yang telah disahkan.
Kami bekerjasama dengan anda untuk memetakan medan pemancar dan menetapkan kawalan gelung tertutup untuk setiap lapisan produk—jadi sistem ini sesuai dengan proses, bukan sebaliknya.

Mengeringkan on Clear Infrared Heating Lamps

Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Inframerah vs Konveksi untuk pengeringan wafer