http://clear-ir-lamp.com/ms/tags/percuma/ Recent content in Percuma on Clear Infrared Heating Lamps Hugo ms Sat, 18 Jul 2026 04:21:09 +0800 http://clear-ir-lamp.com/ms/posts/ozone-free-infrared-lamp/ Sat, 18 Jul 2026 04:21:09 +0800 http://clear-ir-lamp.com/ms/posts/ozone-free-infrared-lamp/ <p><img src="http://clear-ir-lamp.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Lampu inframerah tanpa ozon"></p> <h1 id="mengurangkan-pelepasan-karbon-dan-ozon-dalam-proses-pemanasan-semikonduktor">Mengurangkan Pelepasan Karbon dan Ozon dalam Proses Pemanasan Semikonduktor</h1> <p>Jika anda pernah berada di bilik bersih, anda pasti tahu betapa sukarnya untuk mencapai suhu yang tepat. Anda <a href="https://o-yate.com">memerlukan</a> ketepatan haba yang sangat tinggi, namun alat-alat yang digunakan sering menyebabkan masalah tersendiri.</p> <p>Lampu inframerah biasa cenderung untuk menghasilkan gelombang dengan panjang gelombang kurang dari 200nm. Masalahnya? Gelombang tersebut akan bertindak pada oksigen dan menghasilkan ozon. Dalam persekitaran steril, ozon merupakan bahan berbahaya yang boleh merosakkan peralatan anda serta memaksa sistem HVAC bekerja lebih <a href="https://o-yate.net">keras</a> untuk membersihkan udara.</p> http://clear-ir-lamp.com/ms/posts/lead-free-solder-wafer-preheater/ Fri, 26 Jun 2026 05:39:47 +0800 http://clear-ir-lamp.com/ms/posts/lead-free-solder-wafer-preheater/ <p><img src="http://clear-ir-lamp.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Pemanas wafer solder bebas plumbum"></p> <p>Pada <a href="https://o-yate.com">tahap</a> operasi, perubahan suhu yang berlaku tidak akan ditunjukkan melalui lampu amaran. Sebaliknya, ia akan dicatat sebagai kegagalan dalam laporan kualiti produk.</p> <p>Proses pengeringan wafer, pembakaran bahan fotoresist, proses pembungkusan, dan pembersihan wafer semuanya <a href="https://henruite.com">memerlukan</a> kawalan suhu yang ketat. Pemanas wafer yang bebas plumbum perlu <a href="https://goldisgood.com">dapat</a> menghasilkan suhu yang konsisten, stabil, dan beroperasi dalam persekitaran bilik bersih tanpa menghasilkan zarah-zarah buruk atau menyebabkan gangguan operasi.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam reka bentuk ini</strong><br> Pemanas ini direka untuk memberikan pemanasan yang cepat dan seragam, dengan kawalan ketat pada suhu sebanyak ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Ia juga memastikan ketepatan suhu yang diperlukan untuk mengekalkan dimensi penting wafer. Selain itu, kadar pemanasan yang stabil membolehkan proses berjalan dengan lancar. Pemanas ini direka untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan ia boleh beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan. Dalam proses pembakaran bahan fotoresist, suhu yang stabil sangat penting untuk melindungi ketebalan lapisan bahan tersebut.</p>