http://clear-ir-lamp.com/ms/tags/pos/ Recent content in Pos on Clear Infrared Heating Lamps Hugo ms Wed, 24 Jun 2026 04:34:51 +0800 http://clear-ir-lamp.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ Wed, 24 Jun 2026 04:34:51 +0800 http://clear-ir-lamp.com/ms/posts/post-cleaning-wafer-infrared-heater/ <p><img src="http://clear-ir-lamp.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Pemanas inframerah untuk wafer selepas proses pembersihan"></p> <p>Di fasiliti pengeluaran, wafer yang keluar daripada proses pembersihan masih mempunyai kesan air pada permukaannya; lapisan photosensitive yang belum diproses dengan betul; atau bahan pembungkus yang tidak mengeras secara merata. Semua ini akan menyebabkan masa pemprosesan menjadi lebih lama, malah boleh merosakkan wafer itu sendiri. Itulah sebabnya sistem pemanasan inframerah perlu dikawal dengan teliti: suhu perlu dikawal dengan <a href="https://o-yate.net">ketat</a>, tanpa menambah zarah-zarah berbahaya atau menyebabkan tekanan haba yang berlebihan pada wafer.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikalnya</strong><br> Kami menggunakan pemanas inframerah jenis gelombang pendek serta reka bentuk termal berbasis kuarsa untuk memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C. Reka bentuk ini membolehkan proses pemprosesan photosensitive berjalan dengan lancar, kerana ketepatan suhu sangat penting untuk mengawal dimensi wafer dan profil sisinya. Sistem kawalan berlengkung memastikan suhu tetap stabil, walaupun semasa proses pemindahan suhu yang cepat. Peranti ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dan komponen-komponennya direka untuk <a href="https://goldisgood.com">menghasilkan</a> sifar zarah berbahaya.</p>