<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Genezing on Clear Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://clear-ir-lamp.com/nl/tags/genezing/</link>
		<description>Recent content in Genezing on Clear Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:53:25 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://clear-ir-lamp.com/nl/tags/genezing/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>reflector voor wafer curinglamp</title>
				<link>http://clear-ir-lamp.com/nl/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:53:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://clear-ir-lamp.com/nl/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://clear-ir-lamp.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;reflector voor wafer curinglamp&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de plaatvloer: je weet hoe het werkt. Al een afwijking van maar 0,2°C in de temperatuur tijdens het verhitten van de fotoresist is voldoende om de kritieke dimensies buiten de gewenste normen te brengen. En die reflector in de lamp voor het drogen van de plaat? Dat is geen gewone onderdeel. Hij bepaalt actief de thermische omstandigheden die op elke chip terechtkomen. Als er geen gelijkmatigheid is, zie je oneffenheden en andere problemen die pas later tijdens elektrische tests naar voren komen.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
