<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>UV on Clear Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://clear-ir-lamp.com/nl/tags/uv/</link>
		<description>Recent content in UV on Clear Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:48:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://clear-ir-lamp.com/nl/tags/uv/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lamp voor het drogen van Deep UV (DUV) resist</title>
				<link>http://clear-ir-lamp.com/nl/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:48:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://clear-ir-lamp.com/nl/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://clear-ir-lamp.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lamp voor het drogen van Deep UV (DUV) resist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografieafdeling zijn de processen ‘soft bake’ en ‘hard bake’ niet zomaar stappen om de fotorezist te fixeren. Ze bepalen juist de vereiste toleranties voor de afmetingen van de componenten. Een verschil van maar 0,3°C op het gewicht kan ervoor zorgen dat de afmetingen niet meer voldoen aan de vereisten, waardoor het hele productietraject mislukt. We hebben daarom een DUV-resistverhittingslamp ontwikkeld, zodat de temperatuur beter onder controle kan worden gehouden.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
