<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>UV on Clear Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://clear-ir-lamp.com/pl/tags/uv/</link>
		<description>Recent content in UV on Clear Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:48:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://clear-ir-lamp.com/pl/tags/uv/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampa do wypalania odpornika głębokiego UV (DUV)</title>
				<link>http://clear-ir-lamp.com/pl/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:48:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://clear-ir-lamp.com/pl/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://clear-ir-lamp.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lampa do wypalania odpornika głębokiego UV (DUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na stanowisku litograficznym procesy delikatnego i intensywnego suszenia fotorezystu to nie tylko kroki związane z przygotowaniem materiału do procesu. One decydują o wymaganych parametrach jakościowych produktu końcowego. Nawet niewielka zmiana temperatury o 0,3°C może sprawić, że szerokość linii na płytkach przekroczy dopuszczalne wartości, co skutkuje całkowitą utratą produktu. Stworzyliśmy specjalną lampę do suszenia fotorezystu w układzie DUV, aby uniknąć takich problemów.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co jest istotne z technicznego punktu widzenia&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Lampa wykorzystuje ciepło w zakresie bliskiego podczerwieni do tworzenia równomiernego pola termicznego – z dokładnością ±0,1°C na całej powierzchni płytki. Dzięki temu uzyskuje się wysoką powtarzalność wyników w różnych partiach produktu, ponieważ moc lampy jest sterowana automatycznie, a nie szacowana na podstawie informacji z termoparu znajdującego się w odległym miejscu. To oznacza, że temperatura suszenia fotorezystu pozostaje stabilna, niezależnie od tego, czy pracujemy z małą ilością próbek, czy z dużymi partiami produktu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
