<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(DUV) on Clear Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://clear-ir-lamp.com/tr/tags/duv/</link>
		<description>Recent content in (DUV) on Clear Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:48:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://clear-ir-lamp.com/tr/tags/duv/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Derin UV (DUV) direnç fırın lambası</title>
				<link>http://clear-ir-lamp.com/tr/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:48:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://clear-ir-lamp.com/tr/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://clear-ir-lamp.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Derin UV (DUV) direnç fırın lambası&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Litografide, “yumuşak pişirme” ve “sert pişirme” iş&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;lemleri&lt;/a&gt; sadece “fotoresistanın ayarlanması” adımları değildir. Bu işlemler, kritik boyutların belirlenmesini sağlar. Wafer üzerindeki 0,3°C’lik bir sıcaklık değişimi bile çizgi kalınlıklarını standartların dışına çıkarabilir ve tüm üretimi boşa çıkarabilir. Biz de bu sorunu ortadan kaldırmak için DUV tipi fotoresistan pişirme lambası geliştirdik.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Teknik açıdan önemli olan şeyler&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Bu cihaz, milimetre altı düzeyde eşitlik sağlayan bir termal alan oluşturmak için yakın kızılötesi ısıtma teknolojisini kullanır; wafer yüzeyindeki sıcaklık farkı ±0,1°C civarındadır. Lambanın çıkışı kapalı döngü kontrolüyle yönetildiğinden, ürünler arasında tutarlılık sağlanır. Böylece, ister geliştirme aşamasında isterse üretim aşamasında olsun, fotoresistanın pişirme sıcaklığı sabit kalır.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
