<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dẫn Truyền Nhiệt Bằng Đối Lưu on Clear Infrared Heating Lamps</title>
		<link>http://clear-ir-lamp.com/vi/tags/d%E1%BA%ABn-truy%E1%BB%81n-nhi%E1%BB%87t-b%E1%BA%B1ng-%C4%91%E1%BB%91i-l%C6%B0u/</link>
		<description>Recent content in Dẫn Truyền Nhiệt Bằng Đối Lưu on Clear Infrared Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 03:57:09 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://clear-ir-lamp.com/vi/tags/d%E1%BA%ABn-truy%E1%BB%81n-nhi%E1%BB%87t-b%E1%BA%B1ng-%C4%91%E1%BB%91i-l%C6%B0u/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Hồng ngoại so với đối lưu trong sấy bán dẫn wafer</title>
				<link>http://clear-ir-lamp.com/vi/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 03:57:09 +0800</pubDate>
				<guid>http://clear-ir-lamp.com/vi/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://clear-ir-lamp.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Hồng ngoại so với đối lưu trong sấy bán dẫn wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên sàn sản xuất, quá trình làm khô wafer và nung photoresist không phải là các bước nhiệt tùy chọn mà là các ràng buộc quy trình không thể bỏ qua. Lò đối lưu phải khắc phục hiện tượng trễ nhiệt và chênh lệch nhiệt độ từ rìa đến tâm, điều này thể hiện qua giọt nhỏ li ti sau khi làm sạch hoặc dịch chuyển kích thước mẫu (CD shift) sau khi nung mềm. Kết quả là bạn phải liên tục điều chỉnh để tránh sai lệch năng suất, điều này thể hiện qua các lỗi không lặp lại được trong quá trình lithography.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
