ในกระบวนการลิโทกราฟี ขั้นตอนการอบวัสดุโฟโตเรซิสต์นั้นไม่ใช่เพียงแค่การตั้งค่าค่าต่างๆ เท่านั้น แต่ยังเป็นขั้นตอนที่กำหนดขนาดสำคัญของชิ้นส่วนอีกด้วย หากร้อนในวัสดุมีค่าเปลี่ยนแปลงเพียง 0.3°C ก็อาจทำให้ความกว้างของเส้นที่วาดบนวัสดุเบี่ยงเบนจากมาตรฐาน และส่งผลให้ชิ้นส่วนทั้งหมดต้องถูกทิ้งไป เราจึงได้ออกแบบหลอดไฟสำหรับอบวัสดุโฟโตเรซิสต์แบบ DUV เพื่อควบคุมอุณหภูมิให้อยู่ในช่วงที่เหมาะสม
สิ่งที่สำคัญทางเทคนิค หลอดไฟนี้ใช้ระบบการให้ความร้อนแบบอินฟราเรดใกล้ (NIR) เพื่อสร้างสนามความร้อนที่มีความสม่ำเสมอในระดับต่ำกว่าหนึ่งมิลลิเมตร โดยมีความแตกต่างของอุณหภูมิเพียง ±0.1°C เท่านั้น ด้วยการควบคุมอุณหภูมิแบบโครงข่ายปิด จึงทำให้ได้ความสม่ำเสมอในการอบวัสดุในแต่ละครั้ง ไม่ว่าจะเป็นการอบวัสดุเพื่อการพัฒนาหรือการผลิตจริงก็ตาม นอกจากนี้ หลอดไฟนี้ยังมีความเหมาะสมกับสภาพแวดล้อมในห้องสะอาด โดยใช้วัสดุที่มีการปล่อยก๊าซน้อย และมีระบบควบคุมอนุภาคเพื่อป้องกันไม่ให้มีสิ่งสกปรกเข้าไปทำลายวัสดุ
เหตุใดหลอดไฟนี้จึงเหมาะสำหรับการใช้งานจริง ในโรงงานที่ทำงาน 24/7 การหยุดทำงานโดยไม่คาดคิดถือเป็นเรื่องที่น่ากังวลมาก หลอดไฟนี้สามารถทำงานได้อย่างต่อเนื่องโดยไม่มีการหยุดทำงานโดยไม่คาดคิด และไม่ส่งผลต่อประสิทธิภาพในการทำงาน นอกจากนี้ การตอบสนองทางอุณหภูมิที่รวดเร็วยังช่วยลดเวลาในการอบวัสดุ และลดการใช้พลังงานอีกด้วย ดังนั้นจึงสามารถผลิตวัสดุได้มากขึ้นต่อวัน ลดการต้องแก้ไขวัสดุซ้ำ และช่วยให้กระบวนการลิโทกราฟีมีความแม่นยำมากขึ้น ซึ่งหมายถึงการลดขยะที่เกิดจากวัสดุที่ไม่มีคุณภาพ นอกจากนี้ การไม่มีการปล่อยอนุภาคใดๆ ระหว่างการอบวัสดุยังช่วยรักษาคุณภาพของวัสดุในขั้นตอนที่มีความละเอียดสูงได้อีกด้วย
สิ่งที่คุณควรทราบล่วงหน้า การติดตั้งหลอดไฟนี้ทำได้ง่าย แต่หลอดไฟนี้ต้องมีระบบจ่ายไฟและระบบระบายความร้อนที่เหมาะสมกับขนาดความร้อนที่หลอดไฟนี้สร้างขึ้น หลอดไฟนี้สามารถติดตั้งเข้ากับระบบที่มีอยู่ได้อย่างง่ายดาย แต่ควรวางแผนเกี่ยวกับพื้นที่และระบบจ่ายไฟล่วงหน้า เพื่อหลีกเลี่ยงการล่าช้าในการปรับเปลี่ยนระบบ ควรจัดการระบบจ่ายไฟให้เหมาะสมก่อน จากนั้นคุณจะได้ผลลัพธ์ที่ดีตั้งแต่ครั้งแรกที่ทดลองใช้หลอดไฟนี้