Mengapa Kami Melakukan Ujian Tekanan pada Setiap Element Pemanas Dalam dunia semikonduktor, sedikit sahaja kebocoran elektrik sudah cukup untuk...

Memastikan Jarak Yang Sesuai Semasa Pemanasan Wafer IR Jika kita benar-benar ingin mengurangkan jejak karbon di fasiliti pengeluaran semikonduktor,...

Mengapa Pemanasan IR Lebih Baik Daripada Penggunaan Udara Terpaksa dalam Proses Pengeluaran Semikonduktor Jika anda pernah bekerja dalam bidang...

Melindungi Lampu IR daripada Kerosakan Semasa Penggunaan dalam Alat Pembersihan Wafer Sejujurnya, meletakkan lampu pemanas IR di dalam alat...

Menjaga Kebersihan Wafer MEMS Semasa Proses Pengeringan Jika anda beroperasi di bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa berbahayanya situasi...

Pada tahap operasi, perubahan suhu yang berlaku tidak akan ditunjukkan melalui lampu amaran. Sebaliknya, ia akan dicatat sebagai kegagalan dalam...

Di fasiliti pengeluaran, wafer yang keluar daripada proses pembersihan masih mempunyai kesan air pada permukaannya; lapisan photosensitive yang belum...

Di permukaan wafer, anda tahu bagaimana keadaannya: perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk menyebabkan dimensi-dimensi penting pada...

Dalam proses ini, wafer tersebut melalui proses pembakaran lembut, pembakaran keras, dan proses pengeringan. Tidak ada ruang untuk kesilapan semasa...

Di lantai fabrik, pengeringan wafer dan penaikan fotoresist bukan langkah thermal pilihan—ia adalah sekatan proses yang tidak boleh diabaikan....