红外线干燥与对流干燥在晶圆干燥中的比较

在晶圆制造车间，晶圆干燥和光刻胶烘烤不是可选的热处理步骤——它们是无法规避的工艺限制。对流烘箱需要克服热滞后和边缘到中心的温度梯度，这会导致清洗后出现微小液滴，或软烤后出现CD（临界尺寸）偏移。最终你会不断追踪良率漂移，这表现为光刻工艺中的重复性失效。 技术关键点 红外加热提供直接的辐射热，因此晶...