
در این سیستم، اختلافات حرارتی به صورت چراغ هشدار نمایش داده نمیشوند؛ بلکه در گزارشهای مربوط به کیفیت محصول، به عنوان کاهش بازدهی ظاهر میشوند.
خشک کردن ویفرها، پختن فوتورزیست، بستهبندی و تمیز کردن ویفرها؛ همگی این فرآیندها تحت کنترل دقیق دما انجام میشوند. پیشگرمکن ویفرهای بدون سرب باید دمای یکنواختی را فراهم کند، به سرعت به دمای مورد نظر برسد، و در محیطهای تمیز بدون ایجاد ذرات یا توقفهای ناخواسته کار کند.
آنچه در پشت صحنه مهم است
ما این پیشگرمکن را با در نظر گرفتن گرمایش سریع و یکنواخت، و کنترل دقیق دما طراحی کردهایم؛ یعنی یکنواختی دما در سراسر ویفر باید حدود ±۰.۱ درجه سانتیگراد باشد. همچنین، دمای مورد نظر باید به طور قابل اعتمادی حفظ شود تا ابعاد مهم ویفر تثبیت شوند. سرعت افزایش دما نیز باید متناسب با الگوهای فرآیندی باشد. این پیشگرمکن دارای طراحی حرارتی با کیفیت بالا و کمترین میزان ذرات است؛ بنابراین مناسب برای محیطهای تمیز کلاس ۱ تا ۱۰۰ است. این پیشگرمکن میتواند ۲۴ ساعته کار کند و دارای قابلیت اطمینان بالایی است. در مراحل پختن فوتورزیست، دما به اندازه کافی ثابت باقی میماند تا ضخامت فیلم و ویژگیهای چسبندگی آن حفظ شود.
چرا این پیشگرمکن در عمل موثر است
در فرآیندهای خشک کردن و تمیز کردن ویفرها، این پیشگرمکن باعث کاهش رطوبت و جلوگیری از آلودگی مجدد میشود؛ زیرا دارای الگوی گرمایی منظم و کنترلشدهای است. در فرآیندهای لیتوگرافی، این پیشگرمکن باعث ایجاد دمای مناسب برای پختن فوتورزیست میشود؛ بنابراین دیگر نیازی نیست ویفرها به دلیل تغییرات دما از بین بروند.
در فرآیندهای بستهبندی، این پیشگرمکن میتواند پیشگرم کردن ویفرهای بدون سرب را بدون ایجاد نقاط گرم انجام دهد؛ در نتیجه اتصالات یکنواختی ایجاد میشود و نیاز به تولید مجدد کمتر میشود. نتیجه این است که زمان فرآیند پیشبینیپذیر خواهد بود، میزان ضایعات کمتر خواهد بود، و همچنین مصرف انرژی کاهش خواهد یافت.
آنچه باید در نظر بگیرید
این پیشگرمکن برای ادغام در سیستمهای موجود طراحی شده است؛ رابطهای مکانیکی و الکتریکی استاندارد، ادغام آن را در سیستمهای موجود آسان میکند. اما همچنان باید مشخصات فضای لازم برای نصب آن و منابع انرژی مربوطه را بررسی کنید. همچنین باید از وجود سیستمهای تهویه مناسب در محیط تمیز اطمینان حاصل کنید تا دما در شرایط بار کامل نیز ثابت بماند. تنظیم پیشگرمکن با مشخصات سطح ویفر و سایر اجزای مربوطه، مهمترین عامل برای دستیابی به یکنواختی دما و زمان فرآیند است.