Warum wir jeden einzelnen Waferheizer auf Belastbarkeit prüfen In der Welt der Halbleiter reicht bereits ein winziger elektrischer Leckstrom aus, um...

Die richtige Distanz bei der Erwärmung von Halbleiterwalzen mit Infrarotstrahlung Wenn wir tatsächlich den Kohlenstofffußabdruck der...

Warum IR-Heizung im Vergleich zu gezwungener Luftzirkulation Vorteile hat Wer schon einmal in der Halbleiterfertigung gearbeitet hat, kennt die...

Schutz der IR-Lampen in den Wafer-Reinigungsgeräten Seien wir ehrlich: Die Verwendung von IR-Heizlampen in Wafer-Reinigungsgeräten ist ziemlich...

Wie man die MEMS-Wafern während des Trocknungsprozesses sauber hält Wenn Sie in einem Reinraum der Klasse 100 arbeiten, kennen Sie sicherlich dieses...

Bei der Wärmebehandlung zeigt sich die thermische Drift nicht als Warnlicht an – vielmehr wird sie als Mangel in den Ergebnisberichten festgestellt....

In der Fertigungskulisse kann ein Wafer, der aus dem Reinigungsprozess mit Wasser kommt und dadurch Spuren aufweist, oder ein Photolack, der nicht...

Auf der Wafer-Oberfläche ist es so: Schon eine Abweichung von 0,2 °C bei der Erhitzung des Fotoresists reicht aus, um die kritischen Abmessungen...

Während des Prozesses durchläuft die Wafer verschiedene Schritte wie das Weichbrennen, das Hartbrennen sowie die Aushärtung – dabei gibt es keinen...

Auf dem Fertigungsboden sind Wafer-Trocknung und Photoresist-Vorbacken keine optionalen thermischen Schritte – sie sind Prozessvorgaben, um die man...