제조 현장에서는, 세척 과정을 거친 후에도 웨이퍼에 자국이 남아 있거나, 포토레지스트가 제대로 경화되지 않았거나, 캡슐화 처리가 고르게 이루어지지 않는 경우가 있습니다. 이런 상황에서는 단순히 가공 시간만 늘어나는 것이 아니라, 웨이퍼 자체가 손상될 수도 있습니다. 그렇기 때문에 적외선 가열 방식은 반드시 예측 가능해야 합니다. 즉, 엄격한 온도 제어가 필요하며, 입자가 생기거나 웨이퍼에 열응력이 가해져서 웨이퍼가 손상되는 것을 막아야 합니다.
기술적으로 중요한 점들 저희는 세척 후의 웨이퍼를 처리하기 위해 단파장 NIR을 활용한 적외선 히터와 석영 기반의 열 설계를 사용했습니다. 이를 통해 웨이퍼의 온도를 ±0.1°C 이내로 일정하게 유지할 수 있습니다. 이러한 안정적인 온도 조절 덕분에 포토레지스트의 부드러운 경화 및 강한 경화 과정도 정확하게 진행될 수 있습니다. 온도의 정확성은 치명적인 결함을 줄이고 웨이퍼의 형태를 잘 유지하는 데 매우 중요합니다.
클로즈드-루프 제어 덕분에, 급격한 온도 변화가 있더라도 열 관리가 철저하게 이루어집니다. 이 장비는 클래스 1–100급 청정실에서도 사용할 수 있으며, 에미터와 부품들은 입자가 전혀 발생하지 않도록 설계되었습니다.
생산 현장에서의 장점 한 대의 히터로 여러 단계의 처리를 할 수 있습니다. 세척 후 웨이퍼를 건조시키거나, 리소그래피 과정에서 포토레지스트를 경화시키거나, 후단 처리 과정에서 패키지를 경화시키는 데 사용됩니다. 설정된 온도에 빠르게 도달할 수 있기 때문에 처리 속도가 향상되며, 일관된 온도 덕분에 결함도 줄어듭니다.
에너지 사용량도 줄어듭니다. NIR 기술을 활용함으로써 에너지 효율이 높아지고, 열량도 낮게 유지됩니다. 신뢰성도 매우 높습니다. 이 장비는 24/7 작동해도 온도 변화가 거의 없어서, 계획되지 않은 가동 중단이나 예비 부품의 필요성도 줄어듭니다.
준비해야 할 사항들 설치 시에는 장비의 크기를 고려해야 하며, 가스 및 배기 시스템도 함께 고려해야 합니다. 또한 PLC 인터페이스도 제대로 연결되어 있는지 확인해야 합니다. 필름과 기판에 맞게 온도를 조절하기 위해 짧은 시간 동안 테스트를 해보는 것이 좋습니다.
이 장비는 표준 크기의 웨이퍼와 평평한 패키지에서 가장 효과적으로 작동합니다. 만약 곡면이나 비표준 형태의 기판을 사용한다면, 일관된 온도를 유지하기 위해 맞춤형 부품이 필요할 수 있습니다.