赤外線乾燥と対流乾燥によるウェーハ乾燥の比較

ファブフロアでは、ウェハーの乾燥およびフォトレジストのベークは任意の熱処理ステップではなく、回避できないプロセス制約である。対流炉は熱遅延やエッジからセンターへの温度勾配に対処するが、その結果として洗浄後の微小な液滴やソフトベーク後のCDシフトが発生する。これにより歩留まりの変動を追いかけることに...