なぜ、すべてのウェーハヒーターに対してストレステストを行うのか？ 半導体の世界では、わずかな電気漏れがあっただけで、一括して生産されたシリコンが廃棄されてしまいます。これは最悪の事態です。私たちは、エネルギー効率の高いウェーハヒーターを製造し、温度をしっかりと制御しようとしますが、実際の問題は熱そ...

IRウエハ加熱における適切な距離の設定 半導体製造工場の炭素排出量を減らしたいのであれば、抵抗加熱に過度に依存することは避けなければなりません。短波長赤外線が最適な解です。しかし問題は、このシステムがうまく機能するかどうかは、「安全距離」、つまりランプとウエハの間のわずかな隙間にかかっているという...

なぜファブでは赤外線加熱が強制送風より優れているのか 半導体製造に携わったことがある人なら、待つという苦痛を知っているはずです。 長年にわたり、私たちは強制送風に頼ってきました。つまり、熱い空気を送って作業を進めるわけです。しかし、これには問題があります。まず空気を加熱し、その後でその空気がウェー...

ウェーハ処理装置内でのIRランプの安全な取り扱いについて 正直に言うと、IR加熱ランプをウェーハ洗浄装置の中に設置するのは、まるで火遊びのようなものです。可燃性のある化学物質や、さらに悪いことに爆発性のある化学物質が周囲にある状態では、わずかな火花や絶縁体の破損だけで、大惨事につながり得ます。 そ...

乾燥処理中にMEMSウェーハをきれいな状態に保つために もし、クラス100のクリーンルームを使用しているのであれば、その悩みはよくご存知でしょう。ほんのわずかなほこりや化学物質の蒸気があっても、そのロット全体が台無しになってしまいます。 問題は、ほとんどの加熱素子が実際にはかなり汚れているというこ...

ライン上では、熱ドリフトは警告灯として現れることはありません。代わりに、ロット報告書上で歩留まりの低下として表れます。 ウェーハの乾燥処理、フォトレジストのソフトベイクやハードベイク、パッケージング時の硬化処理、清掃時の乾燥処理——これらすべては、厳格な温度管理の下で行われます。無鉛はんだを使用す...

ファブの現場では、水洗い後に傷が残ったウェーハや、適切に加熱処理されていないフォトレジスト層、または均一に硬化していない封止剤といった問題があると、単に処理時間だけが損なわれるだけでなく、ウェーハ自体も破損してしまいます。そのため、赤外線加熱装置は予測可能でなければならず、厳格な温度制御が求められ...

ウェーハ製造工程においては、わずか0.2℃の温度変動であっても、フォトレジストの特性が規格から外れてしまいます。そして、ウェーハ硬化用ランプに使われている反射板というのは、単なる部品ではありません。それは、各チップに与えられる熱量を積極的に調整する役割を果たします。均一性が保てないと、露光のムラや...

ワークピースは、ソフトベイク、ハードベイク、そしてキュアリングといった工程を経由します。この過程でわずかなずれも許されません。フォトレジストを焼成する際に2°Cの温度差があると、ノード上に橋状の欠陥が生じてしまいます。また、乾燥時に温度が低すぎると、後に致命的な欠陥となる粒子が残ってしまいます。こ...