ファブフロアでは、7×24の連続稼働においてドリフトは許されない。ランプが一度でも不安定になれば、ソフトベイクの条件がずれ、CD均一性に影響が出る。そうなると、たちまちロットは隔離検査対象となる。このRTPランプは、そのリスクを排除するために設計された。
技術的に重要な点： 本装置は封止された石英製アセンブリ内で短波長ハロゲンランプを駆動し、熱を必要な箇所に迅速かつ指向性を持って、かつスペクトル制御下で供給する。プロセスウィンドウ全体でウエハーレベルの温度均一性は±0.1°Cに維持されるため、ソフトベイクおよびハードベイクのプロファイルはロットごとに再現可能である。クリーンルーム対応はClass 1〜100に適合しており、使用点における粒子発生はゼロであることを確認済みである。生産負荷下でも熱系は設定温度の安定性を保持するため、パターニングおよびベイク工程において熱予算が一貫している。
リソグラフィにおいて安定する理由： リソグラフィラインでは、このランプによりフォトレジスト処理条件が仕様内に保たれる。レジストのフロー特性、溶剤除去、架橋反応が管理され、シフト交代ごとの同一の再現性を実現する。信頼性目標は計画外停止ゼロであり、出力劣化の最小化された設計寿命は5,000時間を超える。これにより、停止や手直しのロットが減少し、歩留まりが安定する。エネルギー使用は立ち上がり速度を犠牲にせず最適化されており、サイクルタイムを厳守しながらユーティリティコストを低減することが可能である。
計画時に考慮すべき点： 設置にあたっては、ランプの形状を正確にRTPチャンバーの寸法およびコネクタインターフェースに合わせる必要がある。端子配置や反射板の形状がずれると均一性に影響が出る。レシピに合わせて放射率およびピロメトリ補正値を確定させるための短時間の調整運転が必要となる。調整が完了すればランプは設計通りに動作し、クリーンルームの粒子濃度管理のために交換周期を適切にスケジューリングすることが求められる。