300mm 공정에서는, 포토레지스트를 가열하는 과정에서 15분 정도의 온도 변동만으로도 전체 생산량이 망가질 수 있습니다. 바로 이런 이유로 우리는 리소그래피 공정에 사용할 초고순도 물을 가열할 수 있는 특수 램프를 개발한 것입니다. 여기서는 열적 균일성과 가동 시간이 매우 중요합니다. 이 두 가지 요소가 바로 생산 효율을 결정합니다.
램프의 작동 원리 이 램프는 석영 케이스 안에 단파 적외선 방출체가 있어, 사용 지점에서 직접 초고순도 물을 가열합니다. 온도 변동은 ±0.1°C 내로 유지됩니다. 그 덕분에 웨이퍼 전체에 걸쳐 온도가 균일해지며, 부드러운 가열 및 강력한 가열 과정도 정확하게 진행됩니다. 이 램프는 클래스 1–100 등급의 청정실에서도 사용할 수 있으며, 입자가 전혀 발생하지 않고, 연속적으로 작동해도 가스가 배출되지 않습니다. 5,000시간 이상 사용해도 온도 변동은 5% 미만이며, 빠른 열 반응 속도 덕분에 고속 생산 공정에서도 문제가 없습니다.
실제 현장에서의 효과 가열 과정에서의 오차가 줄어듭니다. 치명적인 크기 오차도 줄어듭니다. 포토레지스트의 성능도 일관됩니다. 24시간 내내 생산을 계속할 수 있으며, 예상치 못한 정비나 램프 교체가 필요 없습니다. 에너지 사용량도 줄어듭니다. 안정적인 온도 조절 덕분에 폐기물도 줄어들고, 웨이퍼당 비용도 낮아집니다.
중요한 점 램프를 설치할 때는 램프가 공정 장비와 잘 맞도록 해야 합니다. 또한 물의 전도도와 흐름의 안정성도 확인해야 합니다. 화학적 성분에 약간의 변화가 생겨도 설정된 온도가 변할 수 있습니다. 따라서 자신의 공정 환경에 맞게 PID 값을 조절해야 합니다. 이렇게 하면 공정이 반복적으로 정확하게 진행됩니다. 바로 이 반복성이 공장의 안정적인 운영을 가능하게 합니다.