300mmラインでは、フォトレジストの焼成中に15分間だけでも温度が変動すれば、そのロット全体がダメになってしまいます。だからこそ、私たちはリソグラフィーベイ用に超純水を加熱するための特殊なランプを開発したのです。ここでは、温度の均一性や稼働時間が非常に重要であり、それらが製品の歩留まりを決定します。
内部で何が重要か このランプは、石英製のケースの中に短波長赤外線放射体を内蔵しており、使用場所で直接超純水を加熱します。その結果、±0.1℃という高い精度で温度を維持できます。これにより、ウェハ全体にわたって均一な温度が保たれ、ソフトベイクやハードベイクの条件も規格通りに保たれます。このランプはクラス1～100のクリーンルームで使用可能で、粒子の発生はなく、連続運転時でもガスの放出もありません。出力も再現性が高く、5,000時間以上の運転でも変動は5％未満です。また、熱応答も速く、高速な処理サイクルにも対応できます。
実際の効果 焼成時の温度変動が減少し、重要な寸法の精度が向上します。フォトレジストの特性もロットごとに一定になります。24時間365日、計画停電や予期せぬランプの交換がなく、メンテナンスも計画的に行えます。ランプは必要な時にのみ加熱されるため、エネルギー消費も削減されます。安定した温度管理により、廃棄物も減り、ウェハあたりのコストも下がります。
正しく設置するためには まず、ランプをトラックの熱インターフェースに適合させ、次に水の導電率や流れの安定性を確認する必要があります。化学的な要素が少しでも変わると、設定値の精度が乱れてしまいます。特定の焼成チャンバーの形状に合わせてPIDを調整するために、短時間の試運転を行う必要があります。これをうまく行えば、プロセスは繰り返し可能になり、再現性が保たれます。そして、再現性こそが工場が円滑に運営される鍵です。